槽式湿法清洗机台有哪些部件构成
发布日期：2025-02-04 22:10 点击次数：71
槽式湿法清洗机台准确来说是一个比较精密的机器，大家对于它的组件也是无比好奇。到底有哪些部分组成这一台机器呢？下面就来为大家剖析一下：
槽式湿法清洗机台主要由多个关键部件构成，每个部件都承担着特定的功能以确保整个清洗过程的高效和稳定。
清洗槽：清洗槽是核心部分，用于容纳化学药液和待清洗的硅片。在清洗过程中，化学药液从槽底流向顶部，对竖直放置在槽内的硅片进行清洗。
主设备电脑：主设备电脑是控制系统，负责整个清洗过程的自动化控制。它包含硅片角度设置模块，用户可以通过该模块输入硅片角度，主设备电脑根据输入的角度控制驱动机构调整硅片位置。
硅片托架：硅片托架用于放置待清洗的硅片，通常由纵向相对布置的左托架和右托架组成。托架的设计确保硅片在清洗过程中保持稳定，并允许硅片在需要时进行旋转调整。
第一驱动机构：第一驱动机构用于驱动硅片托架上的主动轴旋转，从而实现硅片的周向角度调整。这一调整有助于优化硅片表面的清洗效果，避免清洗死角。
影像采集器：影像采集器用于采集待清洗硅片的影像，并将其发送到主设备电脑。主设备电脑通过显示系统展示硅片影像及表面流体流向，帮助用户确定硅片角度。
定位传感器：定位传感器安装在硅片托架底部，用于检测硅片周缘的定位槽。当定位传感器检测到定位槽时，会输出原点位置信号到主设备电脑，以便精确控制硅片的位置。
机械手：机械手用于将待清洗的硅片放置到硅片托架上。机械手沿导轨移动，确保硅片的准确放置和取出。
